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场效应管工作原理

发布时间:2008-12-16 21:36:10  来源:    作者:   更新20260524 001303

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基本工作原理
于闸极及源极之间的电压称为VGS,通常使PN接面处于反向偏压,此反向电压之大小可以改变空乏区的宽度,而影响沟道的阔窄,
即利用VGS所产生的电场来控制电流多少。
 

空乏区受偏压VGS影响的几种情况 (N沟道为例) :
a) 当VGS = 0V,ID = IDSS。
VDD正端经过负载接到漏极,而VDD负端接到源极与门极,使沟道与闸极接面之反向电压产生空乏区域,由于电位差使空乏区在靠近着漏极的区域会向沟道伸延。
 
b) 当VGS = VGS,ID受VGS影响。
偏压VGS使PN接面之反向电压增加,迫使空乏区域向沟道伸延较多,使流过负载及沟道之电流减少。
 
c) 当VGS = VP,ID 刚等于零。
若增加在闸极之反向电压,直至空乏区非常靠近使沟道关闭,这时VGS的电压被称为夹断电压VP (Pinch Off Voltage),此时没有电流流经负载及沟道。
 
d) 当VGS > VP,ID = OA。
当VGS继续增加,使空乏区继续靠近至完全闭合,这时ID完全等于零,这种状态也称为夹断。
 
结论:
JFET借在空乏区模式下工作,我们控制VGS使空乏区产生不同变化及影响ID,此外,ID更受VDS影响,我们可从漏极曲线知ID与VDS之关系。
FET 的特性曲线:
测试电路 (共源极) :

a) 漏极特性曲线 (或输出特性曲线) :

此曲线是表示在VGS固定时,VDS与ID关系
 
上图是VGS = 0V时的漏极特性曲线,从图中可见ID并非与VDS比例上升,其上升变化大致可分为三个区域:
i) 电阻区:VDS上升,ID按比例上升。
ii) 饱和区:VDS上升,ID不上升 (或轻微上升)。
iii) 击穿区:VDS上升,ID急速上升。
VDS(P) 为VGS电压固定时VDS的夹断电压值。838电子
 
一组不同VGS下得出之漏极特性曲线。
 

b) 转移特性曲线:

 
此曲线是表示VDS固定时,ID对VGS之关系
 
由于饱和区域内VDS对ID影响很小,所以FET之转移特性大致可由一曲线表示,
而分为:
i)  线性区。
ii) 非线性区。
 
定义:
 
a) 夹断电压 (VP) Pinch Off Voltage
当ID减至零时的VGS电压。
 

 
b) 饱和漏极电流 (IDSS) :
当VGS等于零时的漏极电流ID。
                      
 
c) 互导 (gm) :
当VDS保持固定,ID与VGS的变化比例,即转移特性曲线图线性区内的斜率, FET的增益多用它来表示,而单位可采用A/V或S。
 



d) 漏极电阻 (rd)又称输出阻抗。
当VGS保侍固定,为VDS变化与ID变化的关系:



DS与IDSS,VP,VGS的互相关系,可由下列公式表示:
 

 
 
例:当VP = - 4V,IDSS = 8.4mA。
1) 当VGS = 0V,求IDS。
2) 当VGS = - 1V,求IDS。      
3) 当VGS = - 2V,求IDS。
4) 当VGS = - 3V,求IDS。   
5) 当VGS = - 4V,求IDS。

 
 

晶体三极管与场效应晶体管之比较

- 晶体三极管BJT 场效应晶体管FET
电极 基极Base
集极Collector
射极Emitter

闸极Gate
漏极Drain
源极Source

载流子 双载流子穿过接面

单一载子在沟道中

噪声 FET
有撞击(散粒子)噪声
BJT
类似一支可变电阻
输入阻抗 共基极<100Ω
共集极 约为βRe
共射极 约为1 kΩ
 

共闸极
共漏极
共源极
 

BE极导通电压约0.7V 至少 >1MΩ
通常为10MΩ100MΩ
GS极通常反向偏压
输入 利用电流IB
为电流控制组件
利用电压VGS
为电压控制组件
输出 输出电流ICIE
视乎接法及IB电流
通常ID接近等于IS
放大特性 通常以直流放大系数β及交流小信号
表示:
通常以互导gm表示


 
 


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